|
一种硅片清洗机申请（专利权）人：四川晶美硅业科技有限公司 摘要 本实用新型公开了一种硅片清洗机，包括机架，所述机架上依次设置有多个清洗槽，清洗槽被隔板和过滤网分隔为清洗室和进料室，所述进料室上设置有进料口，清洗室通过排料口与下一级清洗槽的清洗室连通，本实用新型使用时清洗室内清洗液的上层清液通过排料口进入到下一级清洗槽中，杂质被清洗室底部的过滤网阻挡在进料室内，从而实现清洗液的循环利用和硅片的逐级清洗，大大提高了硅片的清洗质量和清洗效果；同时本实用新型还通过电机和偏心轮实现了清洗架在清洗室内的往复运动，其与传统的静置清洗方式相比，对硅片上的顽固污渍清洗更加彻底，大大降低了硅片表面的污渍残留，提高了硅片的清洗效果。 |