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一种蚀刻半导体用基板液处理装置

  • 申请人:

  • 四川普瑞森电子有限公司

  • 摘要:

  • 本发明提供了一种蚀刻半导体用基板液处理装置,涉及基板加工技术领域,解决基板在进行液处理的时候因为需要覆盖面较大,导致夹持面积很小,使得无法灵活的应对多种厚度和形状的基板进行稳定的夹持。本体中部设置有液处理腔,液处理腔的内壁两侧设置有喷洒管,本体的中部顶部设置有升降杆,升降杆的底部设置有放置架,放置架的中部设置有放置腔,放置腔的两侧设置有抵靠块,抵靠块中部设置有收缩槽,收缩槽的中部设置有弹性伸缩杆,收缩槽通过弹性伸缩杆连接有夹持组件。通过该装置中设置的夹持组件能够对不同厚度形状的基板进行稳定的夹持,使得在进行液处理喷洒的时候更加的稳定,不会发生晃动。


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